納米二氧化硅拋光粉
晶瑞新材料 甘先生
我公司二氧化硅拋光是一種高純度顆粒均勻，分散性好，切削力好，鏡面效果好的拋光粉，廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，
拋光范圍：硅晶圓片、鍺片、化合物半導(dǎo)體材料，光學(xué)器件、藍(lán)寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點(diǎn)：具有應(yīng)用領(lǐng)域廣、拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。如：硅片、化合物晶體、光學(xué)器件、寶石玉器等的拋光加工。
技術(shù)指標(biāo)：
型號 | 外觀 | 粒徑 | 含量 | 應(yīng)用 |
VK-SP20F | 白色粉末 | 20-30nm | 99.8% | 精拋 |
VK-SP50F | 白色粉末 | 50nm | 99.8% | 精拋 |
VK-SP100F | 白色粉末 | 100nm | 99.8% | 精拋 |
我公司生產(chǎn)的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小、分散性好，粘度低，拋光亮度高，光澤細(xì)膩，可以解決材料表面粗糙度、波紋度和表面缺陷等問題。 可以做光學(xué)玻璃拋光，玻璃水鉆拋光，寶石拋光，金屬拋光，石材拋光等精拋。也可參雜到拋光膏或拋光蠟里面當(dāng)拋光蠟主料。
用量
推薦用量為8～20％，調(diào)成漿料再進(jìn)行拋光。
儲藏：常溫密閉儲藏。
包裝：10公斤/袋.
