建模步驟：
1.【上視基準(zhǔn)面】畫圓+中心線。
2.【曲面拉伸】兩側(cè)對稱：30 。
3.【前視基準(zhǔn)面】畫草圖。
3-1.端點(diǎn)添加：重合幾何關(guān)系。
4.【投影曲線】投影類型：面上草圖。（也可以用分割線）
5.【上視基準(zhǔn)面】畫一根直線，在直線中點(diǎn)畫一個(gè)：【點(diǎn)】，點(diǎn)與投影曲線添加：穿透幾何關(guān)系。
6.【曲面掃描】。
7.【加厚】。
8.【圓周陣列】特征：36個(gè)，勾選：幾何體陣列。（角度10度對應(yīng)36個(gè)）（也可以陣列實(shí)體，只是組合有點(diǎn)慢）
9.【刪除/保留實(shí)體】刪除藍(lán)色面。
10.【圓角】半徑：0.2。
11.【評估】--【性能評估】圓角這一步耗時(shí)比較長。
彎曲畫法
1.【前視基準(zhǔn)面】畫草圖。
2.【曲面拉伸】兩側(cè)對稱：5 。
3.【斜線陣列】實(shí)體，方向：右視基準(zhǔn)面；間距：10，數(shù)量：30個(gè) 。
4.【曲面縫合】。
5.【彎曲】折彎：360度。
6.【加厚】。
7.完成。
