文／AI財(cái)經(jīng)社_唐煜
編／趙艷秋
8月24日晚間_A股半導(dǎo)體設(shè)備龍頭中微公司發(fā)布了半年報(bào)。根據(jù)半年報(bào)_2021年上半年_中微公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入13.39億元_同比增長(zhǎng)36.82__實(shí)現(xiàn)歸屬于上市公司股東凈利潤(rùn)3.97億元_同比增長(zhǎng)233.17_。
研發(fā)人均月薪增到5.5萬(wàn)元
中微公司是國(guó)內(nèi)刻蝕機(jī)龍頭_刻蝕是芯片制造的一個(gè)重要工藝_指的是利用化學(xué)途徑選擇性地移除芯片表面或表面覆蓋的薄膜。2004年_公司董事長(zhǎng)尹志堯放棄外國(guó)百萬(wàn)年薪_帶領(lǐng)15人小團(tuán)隊(duì)回國(guó)創(chuàng)辦了中微。目前中微的設(shè)備已打入臺(tái)積電、中芯國(guó)際、意法半導(dǎo)體等制造和封測(cè)客戶。
2019年的招股書(shū)中_中微公司曾披露_因?yàn)殚_(kāi)發(fā)出了與外國(guó)設(shè)備公司具有同等質(zhì)量和相當(dāng)規(guī)格的等離子體刻蝕設(shè)備并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)_外國(guó)商務(wù)部在_2015_年宣布解除了對(duì)我國(guó)等離子體刻蝕設(shè)備多年的出口管制。
與業(yè)績(jī)提升相對(duì)應(yīng)的是_中微公司上半年加大了研發(fā)投入_開(kāi)支2.86億元_相較去年同期增長(zhǎng)38.1_。公司的研發(fā)人數(shù)也從去年同期的298人增加至348人。公司業(yè)績(jī)變好_員工也得到了加薪_半年報(bào)披露_研發(fā)人員平均薪資由去年同期的29.74萬(wàn)元增長(zhǎng)到33.17萬(wàn)元_平均月薪達(dá)到5.5萬(wàn)元。這個(gè)數(shù)字看著不錯(cuò)_但與剛剛發(fā)半年報(bào)的騰訊相比_還有差距。根據(jù)騰訊半年報(bào)_騰訊員工上半年人均月薪7.8萬(wàn)元。
研報(bào)披露已在進(jìn)軍3nm工藝
通常來(lái)說(shuō)_建設(shè)一座晶圓廠_70_的投資都主要用于購(gòu)買(mǎi)設(shè)備。刻蝕設(shè)備、光刻設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備是集成電路前道生產(chǎn)工藝中最重要的三類_在不少先進(jìn)的晶圓廠_刻蝕設(shè)備在整體設(shè)備中的投資中能達(dá)到25_到30__甚至在部分NAND閃存生產(chǎn)線上的投資接近50_。
中微公司稱_目前CCP刻蝕機(jī)已在5nm器件上實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)_并在5納米以下器件的試生產(chǎn)上實(shí)現(xiàn)了突破性的進(jìn)展。用于更小器件、厚度薄的軟材料的ICP刻蝕機(jī)則在高速發(fā)展階段。
目前_中微半導(dǎo)體的等離子體刻蝕設(shè)備已應(yīng)用在國(guó)際一線客戶從65nm到14nm、7nm和5nm及其他先進(jìn)的集成電路加工制造生產(chǎn)線及先進(jìn)封裝生產(chǎn)線。公司2021年上半年刻蝕設(shè)備收入為8.58億元_較去年同期增長(zhǎng)約83.79__毛利率達(dá)到44.29_。
在研項(xiàng)目中披露_中微公司現(xiàn)在已經(jīng)在進(jìn)軍3nm工藝。目前已完成3nm刻蝕機(jī)Alpha原型機(jī)的設(shè)計(jì)、制造、測(cè)試及初步的工藝開(kāi)發(fā)和評(píng)估。
從刻蝕機(jī)起家后_中微的產(chǎn)品線逐步拓展到MOCVD（薄膜沉積設(shè)備）和VOC凈化設(shè)備領(lǐng)域。上半年MOCVD設(shè)備營(yíng)收2.19億元同比下降10.08__但該項(xiàng)業(yè)務(wù)毛利率達(dá)到30.77__較去年同期大幅提升。
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